維基百科:每日圖片/2010年5月22日

X射線光電子能譜學（簡稱XPS）是一種用於測定材料中元素構成、實驗式，以及其中所含元素化學態和電子態的定量能譜技術。這種技術用X射線照射所要分析的材料，同時測量從材料表面以下1納米到10納米範圍內逸出電子的動能和數量，從而得到X射線光電子能譜學。X射線光電子能譜技術需要在超高真空環境下進行。XPS是一種表面化學分析技術，可以用來分析金屬材料在特定狀態下或在一些加工處理後的表面化學。圖為XPS系統的內部視圖。