光罩檢測
在微技術領域中，光罩檢測（英語：mask inspection）是檢查光罩製作正確性的操作技術[1]。用於定位光罩缺陷的是高級自動化系統，如掃描電子顯微鏡等[2]。「光罩檢測」一詞也可能非正式地指稱真正寫入光罩前的光罩資料檢測（mask data inspection）[3]。
參考文獻[编辑]
- ^ "VLSI technology: fundamentals and applications", by Yasuo Tarui, 1986, ISBN 3-540-12558-2, Chapter 4: "Mask Inspection Technology"
- ^ ZEISS Webpage offering automated mask repair tools
- ^ "Design for manufacturability and yield for nano-scale CMOS", by Charles Chiang, Jamil Kawa, 2007, ISBN 1-4020-5187-5, p. 237
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