光罩检测
在微技术领域中，光罩检测（英语：mask inspection）是检查光罩制作正确性的操作技术[1]。用于定位光罩缺陷的是高级自动化系统，如扫描电子显微镜等[2]。“光罩检测”一词也可能非正式地指称真正写入光罩前的光罩资料检测（mask data inspection）[3]。
参考文献[编辑]
- ^ "VLSI technology: fundamentals and applications", by Yasuo Tarui, 1986, ISBN 3-540-12558-2, Chapter 4: "Mask Inspection Technology"
- ^ ZEISS Webpage offering automated mask repair tools
- ^ "Design for manufacturability and yield for nano-scale CMOS", by Charles Chiang, Jamil Kawa, 2007, ISBN 1-4020-5187-5, p. 237
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